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當前我國最先進的集成電路量產工藝已經進入到14nm，以EUV光刻機為代表的工藝制造設備價格極其昂貴，高校很難采購這類設備用于教學，同時，新手操作容易損壞，又有一定的危險性，使得高校集成電路工藝教育與真實工藝線人才需求脫節。為此，我們研發了14nm集成電路工藝套件。
該套件包含如下內容
1. 完整的14nm工藝線虛擬制造設備操作：氧化爐、CVD設備、PVD設備、刻蝕機、離子注入機、退火設備、外延設備。
2. 完整的14nm工藝線虛擬制造步驟及晶圓微觀結構、參數特性、電學特性等：氧化、淀積、光刻、刻蝕、離子注入、擴散、退火、外延。
3. 完成的14nm工藝線典型器件制造步驟及器件微觀結構、參數特性、電學特性等：14nm FinFET；GaAs；LDMOS；MOSFET；BJT；DIODE；RESISTOR。
4. 完善的工業級集成電路版圖設計，包含基本器件單元和電路的版圖設計及GDSⅡ文件的導入和導出。
5. 7nm微納電子教學套件銜接，實現從工藝制造到器件測試完整過程。
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